 |
 |
|
|
|
|
|
|
|
расширенный поиск | карта сайта |
|
|
|
GB/T 4058-2009 | на печать | Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers |
|
|  | Библиография Обозначение | GB/T 4058-2009 | Заглавие на английском языке | Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers | Дата опубликования | 2009-10-30 | Дата вступления в силу | 2010-06-01 | Код МКС | 29.045 | Обозначение заменяемого(ых) | GB/T 4058-1995 | Степень гармонизации | | Количество страниц оригинала | 20 | Статус | Published | Тип стандарта | voluntary national standard | Язык оригинала | Chinese | Доступные языки | | Имя файла | | CCS Code | H80 |  |
|  | Стандарт GB/T 4058-2009 входит в рубрики классификатора:
| |
|  |
|
 |
 |
Цены |
На языке оригинала |
2189,00
|
|
|