Постоянная ссылка
https://www.standards.ru/document/6901033.aspx

ISO 23170:2022

Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Неразрушающее профилирование глубины наноразмерных тонких пленок оксида тяжелого металла на подложках Si с рассеянием ионов средней энергии

На языке оригиналаПоложить в корзину
Заказать перевод

Библиография

ОбозначениеISO 23170:2022
Статус Действует
Вид стандартаST
Заглавие на русском языкеХимический анализ поверхности. Профилирование глубины. Неразрушающее профилирование глубины наноразмерных тонких пленок оксида тяжелого металла на подложках Si с рассеянием ионов средней энергии
Заглавие на английском языкеSurface chemical analysis Depth profiling Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
Код КС (ОКС, МКС)71.040.40
ТК – разработчик стандарта TC 201/SC 4
Язык оригиналаанглийский
Номер издания1
Дата опубликования15.06.2022
Количество страниц оригинала36
Код ценыE
Примечание

Стандарт ISO 23170:2022 входит в рубрики классификатора: