Постоянная ссылка
https://www.standards.ru/document/3590392.aspx

ОСТ11-032.920-82

Структуры эпитаксиальные и пленки диэлектрические. Метод измерения толщины эпитаксиальных слоев кремния в структурах типа кремний на сапфире (КНС) на основе ИК-интерференции

Неактуализированная версияПоложить в корзину
Заказать перевод

Библиография

ОбозначениеОСТ11-032.920-82
Заглавие на русском языкеСтруктуры эпитаксиальные и пленки диэлектрические. Метод измерения толщины эпитаксиальных слоев кремния в структурах типа кремний на сапфире (КНС) на основе ИК-интерференции
Дата введения в действие (опубликования)01.01.1983
Код КС (ОКС, МКС)29.045
Код КГСЭ29
Код ОКСТУ6309
Индекс рубрикатора ГРНТИ 470181;470190
Вид требованийТребования единые гарантирующие конкурентноспособность на мировом рынке
Количество страниц (оригинала)14
Примечание

Изменения

Изменение №2 к ОСТ11-032.920-82

Стандарт ОСТ11-032.920-82 входит в рубрики классификатора: